Tantal Sputtern Ziel, hohe Reinheit, monolithischen, Planar, kathodischen ARC, PVD Beschichtung, Thin Film Deposition, Ta der Magnetron-Sputtern richtet sich an Hersteller und Lieferanten

Haohai Tantal Sputtertargets zeichnen sich durch ihre einheitliche, hohe Dichte Mikrostruktur und kontrollierte Textur, die einheitliche Preise Sputtern und allgemein überlegen, Sputtern Verhalten fördert, verdienen sehr guten Ruf in der ganzen Welt.

Chat Now

Produkt - Details

TANTAL-SPUTTERTARGETS


Tantal Sputtertargets machen dünne Beschichtungen über einen Sputterprozess für Kupfer Metallisierung, magnetische Speichermedien, Drucker-Komponenten, Flachbildschirmen, optische und industrielle Glas und Dünnschicht-Widerstände miteinander verbinden.

Haohai Tantal Sputtertargets zeichnen sich durch ihre einheitliche, hohe Dichte Mikrostruktur und kontrollierte Textur, die einheitliche Preise Sputtern und allgemein überlegen, Sputtern Verhalten fördert, verdienen sehr guten Ruf in der ganzen Welt.

Haohai Tantal Sputtertargets gehören Tantal monolithischen drehbaren Sputter-Targets, planar Sputtertargets Tantal und Tantal kathodischen Ziele.



Tantal monolithischen zylindrischen (Rotary, drehbare) Sputtertargets

Fertigungsprogramm

OD (mm)

ID (mm)

Länge (mm)

Nach Maß

50 - 300

30 - 280

100 - 3000


Spezifikation

Zusammensetzung

TA

Reinheit

3.5N (99.95%),4N (99,99 %), 4.5N (99,995 %)

Dichte

16,6 g/cm3

Korngrößen

Andlt; 80 µm oder auf Anfrage

Fertigungsprozesse

Elektronenstrahl (EB) schmelzen, Schmieden, Extrudieren, Bearbeitung

Form

Gerade, Hundeknochen

Anschlussarten

SCI, SRF, DSF, RFF, WFF, VA, GPI endet Fixierung, spiralförmige Rille, Custom Made

Oberfläche

RA 1.6 Mikrometer oder auf Anfrage

Andere Spezifikation

Dampf, entfettet und entmagnetisiert nach der abschließenden Bearbeitung

Zeichnung Anforderungen erfüllt ID muss GESCHLIFFEN und OD BODEN nach rohen Rohr hergestellt wird, um die ID zu OD Rundlauf zu gewährleisten.

Hohes Vakuum eng, Leckrate an jedem beliebigen Ort nicht zu überschreiten 1 x 10-8STD CC/SEK.

In Kunststoff versiegelt, eingehüllt in Schaum zu schützen und enden gekappt Oberflächen zum Schutz der Abdichtung


Normale Größen

Tantal-Rotary

Sputtertargets

Normale Größen

55mm ID X 70 OD mm X 1334 mm lang

80mm ID x 100mm OD x lang

125mm ID X 153 OD mm X 576 mm lang

125mm ID X 153 OD mm X 800 mm lang

125mm ID X 153 OD mm X 895 mm lang

125mm ID X 155 OD mm X 895 mm lang

125mm ID X 153 OD mm X 1172 mm lang

125mm ID X 153 OD mm X 1676 mm lang

125mm ID X 153 OD mm X 1940 mm lang

125mm ID X 153 OD mm X 1994 mm lang

125mm ID X 153 OD mm X 2420 mm lang

125mm ID X 153 OD mm X 3191 mm lang

125mm ID X 153 OD mm X 3582 mm lang

125mm ID x 153mm OD x lang

125mm ID X 180 OD mm X 624 mm lang

194mm ID X 219 OD mm X 2301 mm lang



Tantal Planar (Rechteck, Rundschreiben) Ziel-Sputtern

Fertigungsprogramm

Rechteck

Länge (mm)

Breite (mm)

Dicke (mm)

Custom Made

10 - 2000

10 - 800

1.0 - 25

Kreisförmige

Durchmesser (mm)


Dicke (mm)

10 - 1000


1.0 - 50


Spezifikation

Zusammensetzung

TA

Reinheit

3.5N (99,95 %), 4N (99.99%),4.5N (99,995 %)

Dichte

16,6 g/cm3

Korngrößen

Andlt; 80 µm oder auf Anfrage

Fertigungsprozesse

Elektronenstrahl (EB) schmelzen,Schmieden, Walzen, Bearbeitung

Form

Platte, Scheibe, Schritt, Custom Made

Typen

Monolithische, mehreren Segmenten Ziel-

Oberfläche

RA 1.6 Mikrometer oder auf Anfrage

Andere Spezifikationen

Wir sorgen dafür, die gleiche Faserrichtung in mehreren Segmenten Bauteile.

Ebenheit, saubere Oberfläche, poliert, frei von Riss, Öl, Punkt.




Tantal Arc Kathoden

Wir liefern Tantal Dreh- und planare Arc Kathoden sowie Dreh- und planare Sputtertargets




Für unsere Sputtertargets Tantal und Arc Kathoden


Toleranz

ACC, Zeichnungen oder auf Anfrage.


Es gibt eine Auswahl an Reinheitsgrade mit unterschiedlichen Preisen und Verfügbarkeit. Reinheit wird durch DC Plasma und Gase sind von LECO Analyzer gemessen. Genauere Tests durch GDMS (Glow Discharge Mass Spectrometry) steht zur Verfügung.


Verunreinigungen Inhalt [ppm]

Reinheit [%]

Elemente

3N5

[99.95]

4N

[99.99]

4N5

[99.995]

Metallische Verunreinigungen [μg/g]

Al

10

1

0.5

Ca

10

1

1

CL

3

1

1

Co

10

1

0.5

CR

10

1

0.5

Cu

5

1

0.5

Fe

50

5

1

K

2

0.4

0.1

Li

1

0.5

0.05

Mg

10

1

0.5

MN

10

1

0.5

Mo

50

10

10

Na

1

0.4

0.4

NB

300

100

50

NI

20

5

1

PB

5

1

1

Si

10

1

0.5

SN

10

1

1

TI

10

1

1

V

5

1

1

W

150

80

50

Zn

5

1

1

ZR

20

5

1

Nichtmetallischen Verunreinigungen [μg/g]

C

40

30

30

O

100

80

80

H

10

10

5

N

40

20

20

S

10

5

1

Garantiert Dichte [g/cm3]

16.6

16.6

16.6

Korngröße [μm]

100

100

100

Wärmeleitfähigkeit [W/(m.K)]

Max.60

Max.60

Max.60

Thermischen Ausdehnungskoeffizienten [1/K]

6.3-6

6.3-6

6.3-6

Anwendung

Großflächige Glasbeschichtung

Verschleißfeste Beschichtung

Optische Beschichtung

Halbleitende



Haohai Metall, ausgestattet mit professionellen Factory, ist einer der führenden Hersteller und Anbieter von verschiedenen Größen Produkte zu binden. Wir sind ein Tantal Sputtern Ziel, hohe Reinheit, monolithischen, planar, kathodischen Bogens, Pvd-Beschichtung, thin Film Deposition, Magnetron Sputtern ta Ziele Hersteller und Lieferant. Willkommen Sie bei kaufen und Großhandel unsere Produkte mit niedrigem Preis, hohe Nutzungsraten, hohe Reinheit und hohe Qualität mit unseren Produzenten.

Ein paar:Aluminium-Sputtern Ziel, hohe Reinheit, monolithischen, röhrenförmige, Rotary, Planar, Schritt, kathodischen ARC, PVD Beschichtung, dünne Film Deposition, Al der Magnetron Sputtern richtet sich an Hersteller und Lieferant Der nächste streifen:Niob Sputtern Ziel, hohe Reinheit, monolithischen, drehbar, Rotary, zylindrische, Planar, kathodischen ARC, PVD Beschichtung, dünne Film Deposition, NB der Magnetron Sputtern richtet sich an Hersteller und Lieferant

Anfrage